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公共技术服务中心举办Heidelberg激光直写系统培训
来源:公共技术服务中心发布时间:2016-03-07

  2016年3月4日下午,公共技术服务中心举办了Heidelberg激光直写系统使用培训,详细介绍了Heidelberg Instruments公司DWL 66+系统的硬件构成、核心原理及操作说明,参与培训人数达29人。

设备功能简介:

  高分辨率激光直写,无需掩模版,制备图形的最小特征尺寸可达600nm,激光波长405nm,加工样品最大尺寸可达6英寸。

应用领域:
  光刻掩模版、半导体器件、MEMS、BioMEMS传感器、集成光学等。  

 

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